水处理系统及水处理k1体育方法

　　k1体育一般来说，净水厂设施由向家庭和营业场所提供可饮用的生活用水 的自来水工厂组成。在净水厂设施中利用了将原水处理成可饮用的净水 的水处理系统。该水处理系统例如使从河流中所取来的原水依次流过沉 沙池、着水池、沉淀池、过滤池、氯混和池、配水池，在流过各池的过 程中，将原水处理成可饮用的净水。作为水处理系统的最后工序，是从 配水池将可饮用的净水配送给家庭和营业场所等各用户。

　　中，注入次氯酸钠(有时写成CN)和苛性苏打等，对原水中含有的细菌 和藻进行第1次杀菌、杀藻处理。进而，在中段工序所设有的沉淀池中， 进行使用了次氯酸钠的第2次杀菌、杀藻处理。接着，在过滤池过滤完 砂子等后，在后段工序所设有的氯混和池中，对净化成可饮用的处理水 中所含有的氯含量进行调整，进行使用了次氯酸钠的第3次杀菌、杀藻 处理。

　　甲垸)为致癌物质的可能性很大。因此，在采用次氯酸钠进行的杀藻、 消毒处理中，要求抑制副生成物(三卤甲垸)的生成。为了达到这样的要 求，从前段工序到后段工序使前段工序、中段工序、后段工序中的次氯 酸钠的注入量的比例发生移动是有效的。

　　如下状态不能顺利地对沉沙池、着水池等前段工序所设有的各池中的处理水进行杀藻、消毒处理，残存有藻类及大肠杆菌等菌类。或者，不 能除净藻类及大肠杆菌等菌类，出现了残留。

　　因此，如下所述的方式引人注目(例如参照日本特开 号公报)在净水厂设施中，在注入次氯酸钠的同时，对前段工序、中 段工序、后段工序等各工序中的处理水照射紫外线(有时写成UV)。艮卩， 在净水厂设施所利用的水处理系统中，在前段工序、中段工序、后段工 序的各工序中，将注入次氯酸钠且同时使用紫外线的照射作为对各池的 处理水的杀藻、消毒处理被确认是有效的。

　　不过，紫外线的照射是利用紫外线灯(UV灯)的发光来进行的。UY 灯由玻璃材质罩着。若该罩的表面弄脏，紫外线的照射量就减少(下降)。 而且，由于UV灯自身的老化，照射量减少(下降)。若紫外线的照射量 减少，就引起杀菌和杀藻的处理能力的下降。在这种情况下，需要有效 的对策。

　　本发明的目的在于，在同时使用次氯酸钠的注入和紫外线的照射来 进行杀菌和杀藻处理的水处理系统中，对紫外线的照射量减少的情况提 供有效的对策。

　　本发明的观点在于 一种水处理系统，其同时使用次氯酸钠的注入 和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理，其中对紫外线的照射量减少的 情况，具有对杀菌和杀藻的处理能力进行补救的手段。

　　按照本发明的观点的水处理系统使引入的原水依次流过多个池，在 流过该各池的过程中将原水处理成净水，其包括注入照射装置，该装 置包括对从所述各池中选择的池的处理水注入次氯酸钠的注入装置、 以及照射紫外线的紫外线照射装置；对所述各池的紫外线的照射量进行 测量的照度计；以及控制装置，该控制装置进行如下控制在设有下述 池的后段工序中，该池是在所述各池中将处理水供给到用于配送所述净 水的配水池中的池，在由所述照度计测量的照射量比基准值减少时，使

　　7从所述紫外线照射装置对比所述后段工序处于较靠前的阶段的工序所 设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

　　根据本发明，可提供一种水处理系统，其同时使用次氯酸钠的注入 和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理，其中对紫外线的照射量减少的 情况具有有效的对策。

　　图1是表示使用了本发明的实施形态所涉及的水处理系统的净水厂 设施的主要部分的示意图。

　　图3是表示本实施形态所涉及的监视控制部的概略构成的方框图。 图4是表示本实施形态所涉及的中段注入照射控制部的概略构成的

　　下面参照附图，对本发明的第1实施形态进行说明。 图1是表示使用了本实施形态所涉及的水处理系统的净水厂设施的 主要部分的示意图。

　　在净水厂设施中，例如从河流引入的原水1的流路的上游侧朝着下 游侧依次配设有沉沙池2、着水池3、絮凝物形成池4、沉淀池5、中 间混和池6、过滤池7、氯混和池8、以及配水池9。在流过这样的各池 2 9的过程中，原水l通过各^fe的水处理而成为可饮用的净水10k1体育，并被 贮存在配水池9中。净水10从配水池9被配送到家庭和营业者等各用户。

　　净水厂设施的水处理系统大致分为前段工序、中段工序、后段工序。 下面概略地对各工序中的处理进行说明。

　　沙和垃圾等后，流入接下来的着水池3。从沉沙池2流入着水池3的原 水1的处理水由流量计lla检测流量，并输入到后述的前段注入照射控 制部13a中。此外，该处理水的浊度由浊度测定部14a内的浊度计测量， 并输入到监视控制部12和前段注入照射控制部13a中。

　　在此，在本实施形态的水处理系统中，同时使用了注入次氯酸钠(CN) 和照射紫外线(UV)来进行杀菌、杀藻的处理。因此，在前段工序、中 段工序、后段工序的各自中分别配置有CN注入用的注入泵15a、 15b、 15c禾口 UV灯16a、 16b、 16c。

　　在前段工序中，从N台注入泵15a将由前段注入照射控制部13调 整了注入量的次氯酸钠注入到着水池3中。从N只UV(紫外线照射由前段注入照射控制部13调整了照射量的紫外线。由 此，通过次氯酸钠和紫外线的处理水进行杀菌、杀藻的处理。 此外，着水池3中有时也另外注入苛性苏打17a。

　　不过，在浊度测定部14a内除了从着水池3内的处理水的透明度 对处理水的浊度进行测量的浊度计之外，还组装有对着水池3内的处 理水内浮游的微粒的数量进行计数的微粒数计数器、对以藻类等为主的 有机物的生物信息进行检测的荧光分析计、同样地例如用波长为730nm 的紫外线照射来对生物进行检测的uv(紫外线)计。

　　注入次氯酸钠(CN)和照射紫外线(UV)的目的在于对处理水所含有 的藻、菌进行杀藻、杀菌。此时认为，若处理水所含有的藻等大量产生， 浊度就上升，按照该浊度来设定次氯酸钠和紫外线的目标的注入照射 量。因此，从浊度测定部14a向前段注入照射控制部13a输出的浊度是

　　以水中所含有的藻类、硅藻类、蓝藻类、细菌类和沙子、粘土质所表示 的浊度成分中抽出其主要成分即藻类、细菌类后的浊度。更具体地说，

　　在中段工序中，在前段工序的着水池3中结束了杀菌和杀藻处理的 处理水被送入絮凝物形成池4中。此时，用流量计llb测出的处理水流 量被输出到中段注入照射控制部13b。用浊度测定部14b的浊度计测出 的浊度被输出到中段注入照射控制部13b中。在絮凝物形成池4中，注 入聚氯化铝(PAC)18a。通过该PAC 18a，处理水中所含有的杂质被固形 化后去除。之后，处理水流入沉淀池5中。

　　从N台注入泵15b将由中段注入照射控制部13b调整了注入量的次 氯酸钠注入沉淀池5中。从N只UV灯16b将由中段注入照射控制部 13b调整了照射量的紫外线照射。由此，通过次氯酸钠以及 紫外线的处理水进行杀菌和杀藻的处理。此外，沉淀池5 中有时也另外注入苛性苏打17b。

　　在中段工序的沉淀池5结束了杀菌和杀藻处理的处理水在接下来的 中间混和池6中添加了 PAC 18b后，在接下来的过滤池7进行过滤处理。 在后段工序中，在过滤池7过滤后的处理水被引入氯混和池8。此时， 流量计llc所测出的处理水流量被输出到后段注入照射控制部13c。浊 度测定部Mc的浊度计所测出的浊度被输出到后段注入照射控制部13c。 从N台注入泵15c将由后段注入照射控制部13c调整了注入量的次 氯酸钠注入氯混和池8中。将从N只UV灯16c发出的由后段注入照射 控制部13c调整了照射量的紫外线中。由此，通过次 氯酸钠以及紫外线的处理水进行杀菌和杀藻的处理。此 外，氯混和池8中有时也另外注入苛性苏打17c。

　　在该氯混和池8中，通过此前的各池2 7的水处理，根据成为可 饮用的净水的处理水中所含有的氯含有量，特别地进行次氯酸钠的注入 量的微调。最后，处理水从氯混和池8贮存到配水池9后，作为净水 10配送给家庭和营业者等各用户。

　　此外，在本实施形态的水处理系统中，在前段工序、中段工序、后段工序的各自中分别配置了用于测量从UV灯16a 、 I6b、 16c照射的 UV的照射量的照度计19a、 19b、 19c。即，在前段工序中，照射到着 水池3中的UV的照射量由照度计19a测量。在中段工序中，照射到沉 淀池5中的UV的照射量由照度计19b测量。此外，在后段工序中，照 射到氯混和池8中的UV的照射量由照度计19c测量。

　　如图2所示，在前段工序中，由照度计19a测量的UV的照射量输 出到前段注入照射控制部13a。在中段工序中，由照度计19b测量的UV 照射量输出到中段注入照射控制部13b。在后段工序中，由照度计19c 测量的UV的照射量输出到后段注入照射控制部13c。

　　在此，由后段工序的照度计19c测量的UV的照射量不仅输出到后 段注入照射控制部13c，也输出到前段注入照射控制部13a和中段注入 照射控制部13b。由此，如后所述，来自后段工序的UV灯16c的照射 量减少时，可对与之相伴的杀菌、杀藻的处理能力在前段工序和中段工 序执行补救的对策。 (监视控制部的构成)

　　图3是表示监视控制部12的概略构成的方框图。监视控制部12由 硬件和软件所组成的计算机系统构成。

　　监视控制部12包括注入照射控制模式表格21、包含有显示部22 和操作部23的输入输出部24、原水浊度判定部25、控制模式读出部26 以及控制模式设定部27。

　　操作部23包括键盘和鼠标。根据从浊度测定部14a输入的原水1 的浊度，在注入照射控制模式表格21中预先设定有前段的着水池3、中 段的沉淀池5、后段的氯混和池8中的次氯酸钠的注入量和紫外线的照 射量的控制模式。前段、中段、后段的各注入照射控制部13a 13c根 据注入照射控制模式表格21的控制模式，调整(控制)次氯酸钠的注入量 和紫外线的照射量。

　　具体来说，例如在原水1的浊度为浊度10以上的高浊度时，前段 注入照射控制部13a只使用次氯酸钠来执行对着水池3的处理水进行

　　ii杀藻和杀菌处理。中段注入照射控制部13b使用次氯酸钠对沉淀池5的 处理水进行杀藻、杀菌处理。此外，后段注入照射控制部13c使用次氯 酸钠和紫外线的处理水进行杀藻、杀菌处理。

　　原水浊度判定部25对从浊度测定部14a输入的原水1的浊度是属 于注入照射控制模式表格21所设定的哪个浊度范围进行判定，将判定 结果和浊度向输入输出部24的显示部22显示，同时将判定结果输出到 控制模式读出部26。控制模式读出部26对注入照射控制模式表格21 所设定的控制模式32进行读取，通过自动手动切换部28，从各输出部 30a、 30b、 30c分别输出到相对应的前段注入照射控制部13a、中段注 入照射控制部13b、后段注入照射控制部13c。

　　控制模式设定部27在动作模式设定为手动模式的状态下，参 照显示部22所显示的原水1的浊度，将操作者通过操作部23所操作输 入的各控制模式32通过被切换设定为手动的自动手动设定部28和各输 出部30a、 30b、 30c而分别输出到相对应的前段注入照射控制部13a、 中段注入照射控制部13b、后段注入照射控制部13c。

　　各注入照射设定部29a、 29b、 29c将操作者通过操作部23指定的 次氯酸钠的注入量和紫外线的照射量(设定值)通过输出部30a、 30b、 30c 而分别输出到前段注入照射控制部13a、中段注入照射控制部13b、后 段注入照射控制部13c。

　　图4是表示中段注入照射控制部13b的概略构成的方框图。另外， 前段注入照射控制部13a和后段注入照射控制部13c是与中段注入照射 控制部13b几乎相同的构成，因此省略说明。

　　中段注入照射控制部13b的主要要素包括次氯酸钠的注入量控制 部46、 UV的照射量控制部47、注入泵驱动部50以及UV灯只数设定 部51。要素40 42是用于对注入量控制部46设定初始值或者设定来自 监视控制部12的设定注入量的构成。同样，要素43 45是用于对照射 量控制部47设定初始值或者设定来自监视控制部12的设定照射量的构

　　注入泵驱动部50对与由注入量控制部46所指定的注入量相对应的 台数的注入泵15b进行驱动。UV灯只数设定部51将与由照射量控制部 47所指定的照射量相对应的只数的UV灯16b点亮。

　　此外，中段注入照射控制部13b具有浊度/注入量变换部48和浊度 /照射量变换部49。浊度/注入量变换部48将从浊度测定部14b输入的 处理水的浊度变换为次氯酸钠的每单位体积的注入量(SV)，并输出到注 入量控制部46。注入量控制部46执行前馈控制，将流量计lib的流量 (PV)乘上每单位体积的目标注入量(SV)后算出的注入量(每单位时间的 注入量)输出到注入泵驱动部50。由此，从注入泵15b将次氯酸钠注入 到沉淀池5的处理水中。

　　浊度/照射量变换部49将从浊度测定部14b输入的处理水的浊度变 换为UV的每单位体积的目标照射量(SV)，并输出到照射量控制部47。 照射量控制部47将流量计lib的流量(PV)乘上每单位体积的目标注入 量(SV)后算出的照射量(每单位时间的照射量)输出到UV灯只数设定部 51。由此，从UV灯16b对沉淀池5的处理水照射紫外线。

　　在此，在本实施形态中，由中段工序所设有的照度计19b测量的 UV的照射量被输入到注入量控制部46和照射量控制部47。注入量控 制部46和照射量控制部47在UY的照射量减少时，执行如后所述的控 制动作。此外，由后段工序所设有的照度计19c测量的UV的照射量被 输入到注入量控制部46和照射量控制部47。同样，注入量控制部46 和照射量控制部47在UV的照射量减少时k1体育，执行如后所述的控制动作。

　　在如前所述的水处理系统中，参照图5以及图6的各流程图等，对 本实施形态所涉及的次氯酸钠(CN)的注入量控制以及UV的照射量控制 进行说明。

　　如前所述，在各前段工序、中段工序、后段工序中，根据原水或处 理水的浊度，通过注入照射控制部13a 13c所含有的注入量控制部46和照射量控制部47的控制动作，对原水或者处理水注入次氯酸钠且照 射紫外线。由此，在各前段工序、中段工序、后段工序中，对原水或者 处理水执行杀菌和杀藻处理。

　　在此，在前段工序所设有的UV灯16a中，由于玻璃材质的罩的表 面弄脏的情况或者UV灯自身的老化，照射量就比基准值减少(下降)。 照射到着水池3的处理水的UV的照度(照射量)由照度计19a测量。在 此，在UV照度为I(mW/cn^)时，用下式(l)表示。 I =(Uv/4 Jt Z2) X exp(ln(T/100) X Zo) (1)

　　Uv是UV灯的紫外线输出功率(mW)， T是紫外线透过率(。/。)， Z 是距UV灯的距离(cm)， Zo是紫外线透过原水或者处理水内的距离(cm)。

　　当然，若紫外线的照射量减少，就引起杀菌和杀藻的处理能力的下 降。因此在本实施形态中，若前段注入照射控制部13a从照度计19a所 输入的测量值认识到照射量的减少，就通过注入量控制部46来执行如 下调整(控制)增大来自注入泵15a的次氯酸钠(CN)的注入量。

　　此时，若前段注入照射控制部Ba例如具有预先表示UV的照射量 的减少和CN的增大量之间关系的表格，参照该表格来决定CN的注入 增大量。该表格由预先试验性地确认的UV的照射量的减少以及杀菌和 杀藻的处理能力下降的信息组成。

　　此外，若前段注入照射控制部13a从照度计19a所输入的测量值认 识到照射量的减少，则也可执行如下动作由照射量控制部47通过UV 灯只数设定部51来增大UV灯16a的点亮的只数，从而对UV照射量 的减少进行补正。由此，能确保来自UV灯16a的最佳的UV照度。

　　在此，在UV的照度已下降时，作为优先顺序，可通过首先增大 CN的注入量，使原水或处理水的粗略的浊度显著下降。不过，在通过 该处理也不能确保UV的照度时，就增大UV的点亮只数或各UV灯的 输出功率。

　　同样，在中段工序所设有的UV灯16b中，由于玻璃材质的罩的表 面弄脏的情况或UV灯自身的老化，照射量就比基准值减少(下降)。艮P，

　　14中段注入照射控制部13b从照度计19b所输入的测量值认识到沉淀池5 的处理水中所照射的UV的照度(照射量)的减少。

　　中段注入照射控制部13b通过注入量控制部46执行如下调整(控 制)增大来自注入泵15b的次氯酸钠(CN)的注入量。若中段注入照射 控制部13b从照度计19b所输入的测量值认识到照射量的减少，则也可 执行如下动作由照射量控制部47通过UV灯只数设定部51增大UV 灯16b的点亮的只数，从而对UV照射量的减少进行补正。

　　在后段工序所设有的UV灯16c中，由于玻璃材质的罩的表面弄脏 的情况或UV灯自身的老化，照射量就比基准值减少(下降)。后段注入 照射控制部13c从照度计19c所输入的测量值认识到氯混和池8的处理 水中所照射的UV的照度(照射量)的减少。

　　一般来说，在净水厂设施中，在后段工序所设有的氯混和池8中， 对于作为可饮用的净水10送入配水池9中的处理水，为了抑制氯含量， 优选将次氯酸钠的注入量调整为最小极限。不过，另一方面，在将uv 照射到氯混和池8的UV灯16c的照度已下降时，也需要对杀菌和杀藻 的处理能力的下降进行补偿的对策。

　　因此，在本实施形态中，如图2和图5所示，由后段工序的照度计 19c所测量的UV的照射量不仅输出到后段注入照射控制部13c，也输 出到前段注入照射控制部13a和中段注入照射控制部13b(步骤Sl)。

　　若前段注入照射控制部13a和中段注入照射控制部13b判定由后段 工序的照度计19c所测量的UV的照度(照射量)低于基准，就分别执行 使各自的UV照射量增大的控制(步骤S2的是、S3)。具体来说，增 大UV的点亮只数或各UV灯的输出功率。

　　艮P，前段注入照射控制部13a执行如下控制由照射量控制部47 通过UV灯只数设定部51来增大UV灯16a点亮的只数，从而增大UV照射量。同样，中段注入照射控制部13b执行如下控制由照射量控制

　　部47通过UV灯只数设定部51来增大UV灯16b点亮的只数，从而增 大UV照射量。

　　通过这样的本实施形态的控制，在来自后段工序的UV灯16c的照 射量减少时，可通过增大前段工序或中段工序中的UV照射量来执行对 后段工序的杀菌和杀藻的处理能力的下降进行补救的对策。特别是，通 过UV照射量的增大，能在DNA水平对大肠杆菌等菌类和病原性微生 物(例如隐孢子虫等)进行杀菌。

　　此吋，没有必要特别地对后段工序所设有的氯混和池8增大次氯酸 钠的注入量，因此可将氯相对于氯混和池8的处理水的含量抑制成最小

　　此外，如图2所示，本实施形态是在如下情况进行的控制将由后 段工序的照度计19c测量的UV的照射量不仅反馈到后段注入照射控制 部13c，也反馈到前段注入照射控制部13a和中段注入照射控制部13b。 本实施形态不限于此，也可适用于将由中段工序的照度计19b测量的 UV的照射量反馈到前段注入照射控制部13a的情况的控制。

　　当然，若后段注入照射控制部13c从照度计19c所输入的测量值认 识到照射量的减少，就执行如下动作由照射量控制部47通过UV灯 只数设定部51来增大UV灯16c的点亮的只数，从而对UV照射量的 减少进行补正k1体育。或者，与照射量控制部47的动作独立，后段注入照射 控制部13c根据需要，有时执行如下调整(控制)通过注入量控制部46 增大来自注入泵15c的次氯酸钠(CN)的注入量。

　　此外，作为第2实施形态，参照图6的流程图，对后段工序中的与 UV照射量的减少(下降)相伴随的控制动作进行说明。本实施形态的水 处理系统的构成和前述的第1实施形态所涉及的图1至图4所表示的构 成相同。

　　16定部14c中也组装有对以藻类等为主的有机物的生物信息进行检测的荧 光分析计。在本实施形态中，由后段工序的荧光分析计所测量的分析值 不仅输出到后段注入照射控制部13c，也输出到前段注入照射控制部13a 和中段注入照射控制部13b(步骤Sll)。

　　前段注入照射控制部13a和中段注入照射控制部13b在由后段工序 的荧光分析计所测量的分析值超过容许范围时，即在流入到氯混和池8 的处理水中所含有的藻类等有机物的量超过容许范围时，执行使各自的 UV照射量增大的控制(步骤S12的否、S13)。具体来说，增大UV 的点亮只数或各UV灯的输出功率。

　　因此，在前段工序或中段工序中，在送到后段工序的处理水所含有 的藻类的杀藻能力不充分时，可通过反馈来自后段工序的荧光分析计的 分析值，特别是增大UV照射量，从而提高杀菌和杀藻能力。通过UV 照射量的增大，特别是可在DNA水平对大肠杆菌等菌类和病原性微生 物(例如隐孢子虫等)进行杀菌。

　　在此，在前段工序或中段工序中，在即使增大UV照射量，来自后 段工序的荧光分析计的分析值也不变化时，即，有机物的量依然超过容 许范围时，则在前段工序或中段工序中，执行使次氯酸钠的注入量增大 的控制(步骤S14的否k1体育、S15)。

　　通过这样的本实施形态的控制，在根据由后段工序的荧光分析计所 测量的分析值，推定出流入到氯混和池8的处理水所含有的大肠杆菌等 菌类、病原性微生物、或藻类等有机物的量超过容许范围时，使前段工 序或中段工序中的UV照射量增大。因此，在前段工序或中段工序中， 在送到后段工序的处理水中所含有的藻类的杀藻能力不充分时，可通过 反馈来自后段工序的荧光分析计的分析值，特别是增大UV照射量，从 而提高杀藻能力。此时，可首先通过增大UV照射量的控制，抑制多余 的次氯酸钠注入到流入氯混和池8的处理水中。

　　此外，在前段工序或中段工序中，在即使增大UV照射量，根据来 自后段工序的荧光分析计的分析值，推定出菌类、病原性微生物的杀菌

　　仅反馈到后段注入照射控制部13c，也反馈到前段注入照射控制部13a 和中段注入照射控制部13b的情况下进行的控制。本实施形态不限定于 此，也可适用于将由中段工序的荧光分析计所测量的分析值反馈到前段 注入照射控制部13a的情况下进行的控制。 (第3实施形态)

　　如图2所示，本实施形态涉及水处理系统，该水处理系统具有如下 功能将由中段工序的照度计19b所测量的UV的照射量(照度)也反馈 到前段注入照射控制部13a，中段工序对前段工序进行支援(backup)。

　　本实施形态的水处理系统的构成和前述的第1本实施形态所涉及的 图1至图4所表示的构成相同。

　　首先，前述的第1实施形态是如下情况在后段工序中，在照度计 19c的照度下降时，判断出UV的照射量的下降，就通过前段注入照射 控制部Da和中段注入照射控制部13b执行使前段和中段的各工序中的 UV照射量增大的控制。此时，在后段工序中，作为处理对象的处理水 处于几乎是净水的状态。

　　在本实施形态中，在前段工序中，在照度计19a的照度下降时，判 断出UV的照射量的下降，就通过中段注入照射控制部13b和后段注入 照射控制部13c执行使中段和后段的各工序的UV照射量增大的控制。 在中段工序中，在照度计19b的照度下降时，判断出UV的照射量的下 降，就通过前段注入照射控制部13a和后段注入照射控制部13c执行使 前段和后段的各工序的UV照射量增大的控制。

　　按照如上所述，根据本实施形态，前段工序中的uv的照射量下降 时，可增大中段和后段的各工序中的UV照射量来对前段工序中的UV 照射不足进行补救。同样，中段工序中的UV照射量下降时，可增大前段以及后段的各工序中的UV照射量，对中段工序中的uv照射不足进

　　本实施形态的水处理系统的构成和前述的第1实施形态所涉及的图 1至图4所表示的构成相同。

　　在中段工序中，为过滤处理前的处理水，在由中段工序的照度计1% 所测量的UV的照度下降时，可推断出处理水的浊度相对较高。因此， 可判断出在前段工序中未能进行充分的杀菌和杀藻的处理。因此，在本 实施形态中，若前段注入照射控制部13a根据来自中段工序的照度计 19b的照度，判断出中段工序中的照度下降而处理水的浊度相对较高， 就执行使次氯酸钠的注入量增大的控制。

　　不过，另一方面，在前段工序中，如前所述，为了抑制在前段工序 中生成三卤甲烷，对次氯酸钠的注入量加以限制。因此，前段注入照射 控制部13a在将次氯酸钠的注入量增大到容许范围内的极限后，将表示 该要点的控制信号输出到中段注入照射控制部13b 。

　　中段注入照射控制部13b—接受该控制信号，就增大中段工序中的 次氯酸钠的注入量，直到中段工序的照度计19b的照度显示容许值。换 言之，中段注入照射控制部13b执行如下控制对前段注入照射控制部 13a中的受限制的次氯酸钠的注入加以支援。

　　按照如上所述，根据本实施形态，能抑制前段工序中的三卤甲烷的 生成，同时可以在中段工序对前段工序的杀菌和杀藻的处理能力的下降 加以支援。

　　另外，本发明并不原样地限定于上述实施形态，在实施阶段，在不 脱离其宗旨的范围内可对构成要素加以变形并具体化。此外，通过对上 述实施形态所公开的多个构成要素进行适当的组合，能形成各种发明。 例如，也可从实施形态所表示的全部构成要素中削减几个构成要素。此 外，也可对不同的实施形态的构成要素进行适当的组合。

　　1. 一种水处理系统，其使引入的原水依次流过多个池，在流过该各池的过程中将原水处理成净水，其特征在于，包括注入装置，其将次氯酸钠注入到从所述各池中选择的池内的处理水中；紫外线照射装置，其对从所述各池中选择的池内的处理水照射紫外线；对所述各池的紫外线的照射量进行测量的照度计；以及控制装置，该控制装置进行如下控制在设有下述池的后段工序中，该池是在所述各池中将处理水供给到用于配送所述净水的配水池中的池，在由所述照度计测量的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对中段工序或前段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大。

　　2. 如权利要求1所述的水处理系统，其特征在于，所述控制装置 独立于所述紫外线照射装置，并控制所述注入装置，对注入到从所述各 池中选择的池内的处理水中的所述次氯酸钠的注入量进行调整。

　　3. 如权利要求1所述的水处理系统，其特征在于，所述控制装置 包括前段注入照射控制单元，其对所述各池中被设在前段工序的池内的处理水中的所述次氯酸钠的注入量和所述紫外线的照射量进行调整；中段注入照射控制单元，其对所述各池中被设在中段工序的池内的 处理水中的所述次氯酸钠的注入量和所述紫外线的照射量进行调整；以 及后段注入照射控制单元，其对所述各池中后段工序所含有的池内的 处理水中的所述次氯酸钠的注入量和所述紫外线的照射量进行调整，所述后段注入照射控制单元是将所述次氯酸钠的注入量和所述紫 外线的照射量分别独立地进行控制的构成。

　　4. 如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的 处理水的所述紫外线的照射量进行测量，所述中段注入照射控制单元是进行如下控制的构成根据由所述后 段工序所设有的照度计测量的照射量，在后段工序中的所述紫外线的照 射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对中段工序所设有的池 照射的紫外线的照射量比基准值增大。

　　5.如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计 以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的 处理水的所述紫外线的照射量进行测量，所述前段注入照射控制单元是进行如下控制的构成根据由所述后 段工序所设有的照度计测量的照射量，在后段工序中的所述紫外线的照 射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对前段工序所设有的池 照射的紫外线的照射量比基准值增大。

　　6. 如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计 以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的 处理水的所述紫外线的照射量进行测量，所述后段注入照射控制单元是进行如下控制的构成根据由所述中 段工序所设有的照度计测量的照射量，在中段工序中的所述紫外线的照 射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对后段工序所设有的池 照射的紫外线的照射量比基准值增大。

　　7. 如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计 以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的 处理水的所述紫外线的照射量进行测量，所述中段注入照射控制单元是进行如下控制的构成根据由所述前 段工序所设有的照度计测量的照射量，在前段工序中的所述紫外线的照 射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对中段工序所设有的池 照射的紫外线的照射量比基准值增大。

　　8.如权利要求3所述的水处理系统，其特征在于，具有各照度计以便对前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池内的 处理水的所述紫外线的照射量进行测量，所述前段注入照射控制单元是进行如下控制的构成根据由所述中 段工序所设有的照度计测量的照射量，在中段工序中的所述紫外线的照 射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对前段工序所设有的池 照射的紫外线的照射量比基准值增大。

　　9.如权利要求l所述的水处理系统，其特征在于，具有对所述各 池的处理水的荧光分析值进行测量的荧光分析计，所述控制装置被按照下述的方式构成根据由所述荧光分析计所测 量的荧光分析值，对所述注入装置的次氯酸钠的注入量或所述紫外线照 射装置的紫外线中任一项所述的水处理系统，其特征在于， 所述中段注入照射控制装置进行如下调整根据来自设于所述后段工序 所设有的池中的荧光分析计的荧光分析值，在该荧光分析值处于容许范 围之外时，在最初就增大所述紫外线的照射量；在增大所述紫外线的照 射量之后，在所述容许范围之外的荧光分析值没有变化时，增大所述次 氯酸钠的注入量。

　　11. 如权利要求1 10中任一项所述的水处理系统，其特征在于，所述多个池至少包括从原水的流路上游侧朝下游侧配设的沉沙池、着水 池、沉淀池、过滤池、氯混和池和配水池。

　　12. —种适用于水处理系统的水处理方法，该水处理系统使引入的 原水依次流过多个池，在流过该各池的过程中将原水处理为净水，所述 水处理方法的特征在于，执行以下工序，该工序包括对从所述各池中选择的池内的处理水注入次氯酸钠且照射紫外线 的工艺，以及进行如下控制的工艺在设有下述池的后段工序中，该池 是在所述各池中将处理水供给到用于配送所述净水的配水池中的池，在 由所述照度计所测量的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装 置对中段工序或前段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大k1体育。

　　13. —种适用于水处理系统的水处理方法，该水处理系统使引入的 原水依次流过前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各 池，并在流过该各池的过程中将原水处理成净水，所述水处理方法的特征在于，执行以下工序，该工序包括对从前段工序、中段工序、后段工序的各自中所分别设有的各池中 选择的池内的处理水照射紫外线的工艺；以及根据由所述后段工序所设有的照度计测量的照射量，在后段工序中 的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线照射装置对前 段工序或中段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比基准值增大的 工艺。

　　14. 如权利要求13所述的水处理方法，其特征在于，执行以下工序，该工序包括根据由所述中段工序所设有的照度计测量的照射量，在中段工序中的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线 照射装置对前段工序或后段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比 基准值增大的工艺。

　　15. 如权利要求13所述的水处理方法，其特征在于，执行以下工序，该工序包括根据由所述前段工序所设有的照度计测量的照射量，在前段工序中的所述紫外线的照射量比基准值减少时，使从所述紫外线 照射装置对中段工序或后段工序所设有的池照射的紫外线的照射量比 基准值增大的工艺。

　　全文摘要一种水处理系统，其同时使用次氯酸钠的注入和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理，在该水处理系统中具有控制装置(13a、13b)，该控制装置针对后段工序所设有的池(8)的紫外线的照射量减少的情况，使对中段工序或前段工序所设有的池(3、5)紫外线的照射量增大。

　　如您需求助技术专家，请点此查看客服电线.废水处理、污泥脱水 2.造纸固废高值化利用

　　1.环境污染控制：环境污染物的高级氧化去除及转化机制 2.环境计算化学：典型污染物的环境相关物性参数预测及构效关系研究

　　主要从事海洋生物医药及海洋污染物的微生物修复研究。 （1）海洋微生物中筛选免疫活性物质，用于抗氧化保健品以及抗肿瘤药物的开发。 （2）开展石油烃降解菌的基因组学、转录组以及代谢组和关键酶基因研究，分析其降解石油烃途径。利用分子生物学和生物信息学技术开展与海洋环境污染治理和修复相关的微生物分子数据